| 摘要 |
Eine Beleuchtungsoptik (1) für die Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes (8), in dem ein abzubildendes Objekt (12) anordenbar ist. Das Objektfeld (8) hat längs einer Objektverlagerungsrichtung (y) eine Scanlänge (y0). Die Beleuchtungsoptik hat zwei Facettenspiegel (6, 7) zur reflektierenden Führung von Beleuchtungslicht (3) hin zum Objektfeld (8). Zweite Facetten des zweiten Facettenspiegels (7) dienen zur Führung jeweils eines Beleuchtungslicht-Teilbündels in das Objektfeld (8). Der zweite Facettenspiegel (7) hat einen Pupillenabstand (PA1 + PA2) von einer dem zweiten Facettenspiegel (7) nächstbenachbarten Pupillenebene (12b) der Beleuchtungsoptik (11). Die zweiten Facetten sind in einem Gitter angeordnet, wobei mindestens eine Gitterkonstante des Gitters vom Pupillenabstand (PA1 + PA2) und von der Scanlänge (y0) vorgegeben ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine möglichst homogene Ausleuchtung vorgegebener Pupillenabschnitte erreicht wird. |
