半導体加工用のマスク位置決めシステム

摘要

イオン注入マスクと加工材との精密かつ再現可能な位置決めを提供するためのマスク位置決めシステムは、複数のイオン注入マスクが緩く接続するマスクフレームを含む。マスクフレームは、複数のフレーム位置決めキャビティを備え、また、各マスクは、複数のマスク位置決めキャビティを備える。本システムは、さらに、加工材を保持するためのプラテンを含む。プラテンは、マスク位置決めキャビティおよびフレーム位置決めキャビティとそれぞれ係合可能とした複数の位置決めピンおよびフレーム位置決めピンを備える。マスクフレームは、マスクと加工材との大まかな位置決めを行うため、フレーム位置決めキャビティをフレーム位置決めピンと合致するように移動させながらプラテン上に下降させる。次にマスク位置決めキャビティをマスク位置決めピンと合致するように移動させ、それによって各マスクをそれぞれの加工材との精密な位置決め状態まで移動させる。【選択図】図１