| 摘要 |
Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes, in welchem ein Objektfeld einer nachfolgenden abbildenden Optik anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht einer EUV-Lichtquelle. Die Beleuchtungsoptik hat eine mit dem Beleuchtungslicht beaufschlagte Pupillen-Beleuchtungseinheit mit Facetten zur Beleuchtung einer Pupille (29) im Beleuchtungsstrahlengang mit dem Beleuchtungslicht mit vorgegebener Pupillen-Intensitätsverteilung. Die Pupillen-Beleuchtungseinheit ist so ausgeführt, dass eine Mehrzahl von Ausleuchtungskanälen der Pupillen-Beleuchtungseinheit lediglich einen Teil des gesamten Objektfeldes ausleuchtet. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, bei der eine zu große Beleuchtungs-Intensität auf den Facetten der Pupillen-Beleuchtungseinheit vermieden ist. |
