| 摘要 |
본 발명은, 베이스 기판 상에 제1 에칭 중지층을 형성하는 단계[이때, 제1 에칭 중지층은 연속된 컷아웃의 제1 패턴을 상기 에칭 중지층이 갖도록 형성된다]와, 제1 에칭 중지층 상에 제1 전극 재료층을 형성하는 단계와, 제1 전극 재료층 상에 제2 에칭 중지층을 형성하는 단계[이때, 제2 에칭 중지층은 제1 패턴과는 상이한, 연속된 컷아웃의 제2 패턴을 상기 제2 에칭 중지층이 갖도록 형성된다]와, 제2 에칭 중지층 상에 제2 전극 재료층을 형성하는 단계와, 구조화된 마스크를 제2 전극 재료층 상에 형성하는 단계와, 제1 전극 재료층으로부터 하나 이상의 제1 전극 유닛을 에칭하고 제2 전극 재료층으로부터 하나 이상의 제2 전극 유닛을 에칭하기 위해 제1 방향으로 제1 에칭 단계를 구현하고, 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 제2 에칭 단계를 구현하는 단계를 포함하는, 마이크로 기계 부품(100)의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 마이크로 기계 부품(100)에 관한 것이다. |
