发明名称 EXPOSURE APPARATUS METHOD OF CONTROLLING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
摘要 노광 장치는 기판 상의 레지스트를 광학계를 통해 노광시킨다. 상기 노광 장치는, 상기 기판을 보유하여 노광 위치에 상기 기판을 위치 결정하도록 구성된 테이블; 상기 기판 상에 형성된 얼라인먼트 마크로부터 레지스트 표면까지의 거리와 상기 레지스트 표면의 기울기를 취득하도록 구성된 취득 유닛; 및 상기 레지스트 표면의 기울기를 저감하기 위해, 상기 테이블의 기울기를 보정할 때 발생하는 노광 위치의 시프트를 보정하기 위한 보정값을 상기 거리와 상기 기울기를 이용하여 산출하고, 상기 보정값에 따라 상기 테이블의 위치를 제어하는 제어 유닛을 포함한다.
申请公布号 KR101599577(B1) 申请公布日期 2016.03.03
申请号 KR20130034166 申请日期 2013.03.29
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 사카모토 노리토시
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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