发明名称 Szintillatorplatte und Verfahren zu deren Herstellung
摘要 Die Erfindung betrifft eine Szintillatorplatte mit – einem feuchtigkeitsundurchlässigen Substrat (1; 2), – einer Szintillatorschicht (3; 4), die auf das Substrat (1; 2) aufgebracht ist, – einer Zwischenschicht (5; 6), die auf der Szintillatorschicht (3; 4) aufgebracht ist, – einer feuchtigkeitsundurchlässigen Schutzschicht (7; 8), die die Zwischenschicht (5; 6) bedeckt. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Herstellungsverfahren für eine Szintillatorplatte, bei dem – in einem ersten Fertigungsschritt auf ein feuchtigkeitsundurchlässiges Substrat (1; 2) eine Szintillatorschicht (3; 4) aufgebracht wird, – in einem zweiten Fertigungsschritt auf die Szintillatorschicht (3; 4) eine Zwischenschicht (5; 6) aufgebracht wird, – in einem dritten Fertigungsschritt auf die Zwischenschicht (5; 6) eine feuchtigkeitsundurchlässige Schutzschicht (7; 8) aufgebracht wird. Eine derartige Szintillatorplatte ist mechanisch stabil und feuchtigkeitsgeschützt und ermöglicht Aufnahmen mit einer verbesserten Bildqualität. Mit dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren ist eine derartige Szintillatorplatte einfach und zuverlässig herstellbar.
申请公布号 DE102014217580(A1) 申请公布日期 2016.03.03
申请号 DE201410217580 申请日期 2014.09.03
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 LOWACK, KLAUS;HAUSEN, MARTINA;MRÓZ, IZABELA MAGDALENA
分类号 G21K4/00;G01T1/202 主分类号 G21K4/00
代理机构 代理人
主权项
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