发明名称 |
钴基板处理系统、设备及方法 |
摘要 |
公开了包含钴沉积的电子装置处理系统。一个系统包含主机、一或多个处理腔室、以及一或多个沉积处理腔室,该主机具有传送室与至少两个小面,该一或多个处理腔室用以对基板进行金属还原或金属氧化物还原处理、以及可能也进行退火处理,而该一或多个沉积处理腔室用以进行钴沉积处理。其他的系统包含传送室、耦接至该传送室且用以进行金属还原或金属氧化物还原处理的一或多个负载锁定处理腔室。作为各种其他方面,也说明了基板的钴沉积处理的其他方法与系统。 |
申请公布号 |
CN105378907A |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201480040006.X |
申请日期 |
2014.07.22 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯;布尚·左普;博·郑 |
分类号 |
H01L21/677(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;赵静 |
主权项 |
一种电子装置处理系统,包括:主机,具有至少一个传送室及至少两个小面;第一处理腔室,耦接至所述至少两个小面中的至少一个小面,并用以对基板进行金属还原处理或金属氧化物还原处理;及至少一个沉积处理腔室,耦接至所述至少两个小面中的另一个小面,并用以对基板进行钴化学气相沉积处理。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |