发明名称 一种磁共振气室的抗弛豫镀膜方法
摘要 本发明属于磁共振气室的镀膜方法,特别是一种磁共振气室的抗弛豫镀膜方法。在本发明技术方案中,重点介绍了镀膜材料的选择、镀膜工艺及镀膜前后对气室的处理方法。该方法成膜效果好,膜层薄、厚度均匀、耐高温、操作简单、安全性高,有效的提高了气室的抗弛豫能力。
申请公布号 CN105369219A 申请公布日期 2016.03.02
申请号 CN201510726460.7 申请日期 2015.10.30
申请人 北京自动化控制设备研究所 发明人 郑辛;田晓倩;田海峰;尚克军;秦杰;汪世林;王宇虹;裴强
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 核工业专利中心 11007 代理人 张雅丁
主权项 一种磁共振气室的抗弛豫镀膜方法,气室从结构上包括上部的圆筒结构和下部的立方体结构;圆筒结构的高度为2~4mm,直径为1~2mm;立方体结构的棱长为6mm;圆筒结构的下底面设置在立方体结构上顶面的中心位置;其特征在于,包括如下步骤:(1)采用Piranha溶液清洗气室内壁配制Piranha溶液:将体积比为3:7的30at%过氧化氢溶液和98at%的浓硫酸混合,搅拌均匀形成Piranha溶液;将Piranha溶液注入气室内直至注满,再将气室浸入Piranha溶液中,静置0.5~1.5小时;(2)用纯净水冲洗气室内壁倒出气室内外的Piranha溶液,用纯净水冲洗气室内外,用电导率仪测量每次冲洗气室内外后水的电导率,当电导率的值小于0.7μS/cm时判断冲洗完成,进行下一个步骤;(3)对气室进行烘干和除气处理将气室放在烘箱中,烘箱温度设定为100℃,除去气室表面的水分,使气室干燥;然后将气室放入真空除气炉,对气室进行除气;(4)将派瑞林材料气化、裂解、沉积(4.1)将派瑞林材料放置在气化箱,温度设定为150℃,使派瑞林材料蒸发;(4.2)气态的派瑞林材料进入到裂解室,温度设定为650℃,派瑞林材料在裂解室内由聚合物裂解为稳定的活性单体;(4.3)将气室放入沉积室内,温度设定为25℃,再将步骤(4.2)中得到的活性单体派瑞林材料输入到沉积室内,使活性单体派瑞林材料均匀涂布在气室内壁,形成一层均匀的派瑞林膜层。
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