| 摘要 |
【課題】 金属製の真空容器内に配置されたアンテナに高周波電流を流すことによって誘導結合型のプラズマを生成するプラズマ処理装置において、真空容器内のアンテナよりも基板とは反対側の上部空間においてプラズマが生成されるのを防止する。【解決手段】 金属製の真空容器２内にアンテナ２０が配置されている。そして真空容器２内の空間の内、アンテナ２０よりも基板１０側の空間を下部空間６２、基板１０とは反対側の空間を上部空間６１と呼ぶと、上部空間６１に、上部空間６１におけるプラズマ生成を阻止する誘電体６６を配置している。【選択図】 図１ |
