对用于校正介质对光信号的作用的设备进行配置的方法和系统、用于校正该作用的方法、设备和系统

摘要

本发明涉及对用于校正介质对已传播穿过该介质的光信号的作用的设备进行配置的方法和系统，该设备包括至少一个光学元件，至少一个光学元件的空间相位剖面可被单独调整。配置系统和方法包括将在介质的输出处获得的参考信号和失真信号传播穿过校正设备。测量干扰参数，并通过修改校正设备的光学元件中的每个的相位剖面来优化干扰参数。本发明还涉及用于校正介质对已传播穿过所述介质的光信号的作用的方法和系统。

主权项

一种用于对设备进行配置以校正介质对已传播穿过所述介质的光信号的作用的方法，所述设备包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件的空间相位剖面能够被单独调整，所述方法包括如下步骤：‑将第一光信号传播穿过所述介质，该传播步骤提供失真信号；‑将所述失真信号传播穿过所述设备；‑将被称为参考信号的第二光信号传播穿过所述设备，所述参考信号与所述第一光信号相同；‑优化所述失真信号与所述参考信号之间的干扰，该优化步骤包括对于至少一个光学元件进行下列步骤的至少一次迭代：‑对所述失真信号与所述参考信号之间的至少一个干扰参数进行测量；以及‑根据所述干扰参数修改至少一个光学元件的相位剖面。