发明名称 | 氮化镓系化合物半导体发光元件 | ||
摘要 | 一种氮化镓系化合物半导体发光元件,在六方晶纤锌矿结构的(10-10)m面生长p-GaN层,将作为p型掺杂物的Mg浓度在1.0×10<sup>18</sup>cm<sup>-3</sup>到9.0×10<sup>18</sup>cm<sup>-3</sup>的范围内进行调整。 | ||
申请公布号 | CN102576786B | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
申请号 | CN201080036400.8 | 申请日期 | 2010.08.03 |
申请人 | 松下知识产权经营株式会社 | 发明人 | 加藤亮;藤金正树;井上彰;横川俊哉 |
分类号 | H01L33/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/32(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 一种氮化镓系化合物半导体发光元件,具有:n型氮化镓系化合物半导体层;p型GaN层;位于上述n型氮化镓系化合物半导体层与上述p型GaN层之间的活性层;位于上述p型GaN层与上述活性层之间的p型AlGaN溢出抑制层;以及与上述p型GaN层接触的p型电极,在上述氮化镓系化合物半导体发光元件中,上述p型GaN层在表面具有(10‑10)面,上述p型GaN层与上述p型AlGaN溢出抑制层接触,上述p型GaN层由掺杂了浓度高于9.0×10<sup>18</sup>cm<sup>‑3</sup>的Mg的高浓度区域和上述高浓度区域以外的区域构成,上述高浓度区域以10nm以上且100nm以下的厚度设置在上述p型电极侧,在上述高浓度区域以外的区域中掺杂了浓度在1.0×10<sup>18</sup>cm<sup>‑3</sup>以上且9.0×10<sup>18</sup>cm<sup>‑3</sup>以下的范围内的Mg。 | ||
地址 | 日本国大阪府 |