| 发明名称 | 一种掩膜板、基板的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种掩膜板、基板的制作方法，涉及显示技术领域，解决了现有技术中掩膜板对位时无法实现精度对位的问题。一种掩膜板，包括曝光图案，其中，所述曝光图案包括第一曝光图案和第二曝光图案，其中，所述第一曝光图案用于形成对应的薄膜图案，所述第二曝光图案用于掩膜板的曝光对位，且至少所述第二曝光图案的透光性可调节。 | ||
| 申请公布号 | CN103513509B | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
| 申请号 | CN201310513861.5 | 申请日期 | 2013.10.25 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 郭建 |
| 分类号 | G03F1/80(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/80(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种掩膜板，包括曝光图案，其特征在于，所述曝光图案包括第一曝光图案和第二曝光图案，其中，所述第一曝光图案用于形成对应的薄膜图案，所述第二曝光图案用于掩膜板的曝光对位，且至少所述第二曝光图案的透光性可调节；所述掩膜板还包括：第一电极、第二电极以及设置在所述第一电极和第二电极之间电致变色材料层，用于形成透光性可调节的曝光图案。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区西环中路8号 | ||