| 发明名称 | 一种用于光刻设备的对准装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种用于光刻设备的对准装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供一用于对准的照明光束；光学系统，用于使所述照明光束倾斜入射至对准标记；探测器，用于探测所述对准标记产生的衍射光束的干涉信号；处理单元，用于根据所述干涉信号的强度随运动台位置变化的关系计算对准位置。 | ||
| 申请公布号 | CN105372943A | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
| 申请号 | CN201410429838.2 | 申请日期 | 2014.08.28 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 周钰颖;陆海亮 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅 |
| 主权项 | 一种用于光刻设备的对准装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供一用于对准的照明光束；光学系统，用于使所述照明光束倾斜入射至对准标记；探测器，用于探测所述对准标记产生的衍射光束的干涉信号；处理单元，用于根据所述干涉信号的强度随运动台位置变化的关系计算对准位置。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||