IMPRINT LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD

摘要

임프린트 리소그래피의 방법은 기판 또는 임프린트 템플릿 내의 보이드 공간의 이용을 포함한다. 임프린트 템플릿과 기판 상의 임프린트가능한 유동성 매체 사이에 갇힌 가스 포켓은 임프린트가능한 매체가 굳고 나면 불규칙성을 야기할 수 있다. 보이드 공간은 통상적으로 임프린트가능한 매체를 굳기 이전에 가스 포켓이 가스의 유동이나 확산에 의하여 보이드 공간 내로 흩어지게 한다. 예를 들어, 템플릿의 패터닝 표면을 형성하거나 그와 이웃하는 층으로서 임프린트 템플릿의 일부인 고형 다공성 매체의 층은 보이드 공간을 제공할 수 있다. 다공성 층의 보이드 공간은 갇힌 가스가 유동하거나 확산될 수 있는 보이드 공간으로서 작용한다. 패터닝될 기판은 같은 목적을 위해 다공성 층을 포함할 수도 있다. 적합한 고형 다공성 매체는 나노다공성 실리카를 포함한다.