一种压环

摘要

本实用新型公开了一种压环，该压环安装在溅射工艺薄膜沉积腔室中的内衬的翻边上，其特征在于，所述压环包括环状本体和沿环状本体周向间隔排列的至少3个支撑单元，所述支撑单元中设置有能够沿环状本体径向移动的支撑块，压环通过支撑块安装在所述内衬的翻边上，并通过沿环状本体径向改变支撑块的位置以调节所述环状本体与所述内衬的径向相对位置。本实用新型压环可以方便进行位置调节，从而保证与晶片同心，保证薄膜沉积的均匀性并减少碎片机率。

主权项

一种压环，该压环安装在溅射工艺薄膜沉积腔室中的内衬的翻边上，其特征在于，所述压环包括环状本体和沿环状本体周向间隔排列的至少3个支撑单元，所述支撑单元中设置有能够沿环状本体径向移动的支撑块，所述压环通过所述支撑块架设在所述内衬的翻边上，并通过沿所述环状本体径向改变所述支撑块的位置以调节所述环状本体与所述内衬的径向相对位置。