用于光刻的1.5D SLM

摘要

本发明涉及一种改进的微光刻书写器，其在工件的表面上扫描调制图案。公开的SLM采用连续或准连续的辐射源工作在衍射模式中。微光刻书写器使用长且窄的SLM，并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特性。

主权项

一种微光刻系统，被构造为曝光工件之上的辐射敏感层，所述微光刻系统包括：SLM，被构造为以衍射模式工作，通过控制光的相位工作且由在反射镜之间的干涉间接调制像素的强度，以调制并中转辐射；照明装置，适合于采用局部相干且连续或准连续的辐射照明所述SLM；中继光学系统，适合于以与微反射镜不同的映射将来自于所述SLM的所述微反射镜的辐射投射至像面上，该映射利用局部相干，以产生增加的和消减的强度效应并锐化所述像面上的边缘清晰度；以及扫描机械装置，在所述SLM调制投射辐射时，该扫描机械装置适合于在所述像面上扫描所述投射辐射；其特征在于：所述SLM包括长轴上至少1000个微反射镜和窄轴上2至20个微反射镜的阵列，其中所述窄轴上的微反射镜和所述中继光学系统还适合于使用沿着所述窄轴的局部相干，以产生增加的和消减的相干强度效应并锐化所述像面上的边缘清晰度。