发明名称 |
在母材的表面通过掩模形成凸起的方法及装置 |
摘要 |
本发明涉及一种通过掩模形成凸起的方法及装置,更为详细地,涉及一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,并且所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。 |
申请公布号 |
CN105378137A |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201380077204.9 |
申请日期 |
2013.09.05 |
申请人 |
SEP株式会社 |
发明人 |
李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京冠和权律师事务所 11399 |
代理人 |
朱健;陈国军 |
主权项 |
一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。 |
地址 |
韩国京畿道安养市 |