发明名称 在母材的表面通过掩模形成凸起的方法及装置
摘要 本发明涉及一种通过掩模形成凸起的方法及装置,更为详细地,涉及一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,并且所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。
申请公布号 CN105378137A 申请公布日期 2016.03.02
申请号 CN201380077204.9 申请日期 2013.09.05
申请人 SEP株式会社 发明人 李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英
分类号 C23C14/04(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 北京冠和权律师事务所 11399 代理人 朱健;陈国军
主权项 一种通过掩模形成凸起的方法,其包括:掩模形成步骤,在母材上形成掩模层;蚀刻步骤,对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻;以及掩模去除步骤,去除所述掩模层,所述掩模形成步骤包括:至少形成一个以上的小型掩模的步骤,以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。
地址 韩国京畿道安养市