发明名称 |
一种n面电极下沉的反极性AlGaInP发光二极管芯片 |
摘要 |
一种n面电极下沉的反极性AlGaInP发光二极管芯片,自下至上依次包括p面电极、衬底、键合层、反射镜层、绝缘层、p型电流扩展层、p型半导体层、有源发光区、n型半导体层、n型电流扩展层、窗口层、n面电极和n面焊盘;p面电极制备在衬底的底面;绝缘层上分布有开孔,反射镜层通过绝缘层上的开孔与p型电流扩展层接触;有源发光区是多量子阱或多异质结的结构;窗口层中设有深达n型电流扩展层上表面的开孔,n面电极设置在n型电流扩展层的上表面,且处于窗口层的开孔中。该芯片可以避免AlGaInP基LED窗口层的n面GaAs欧姆接触界面的光吸收,显著提升光提取效率,并显著提升器件的电流扩展能力。 |
申请公布号 |
CN105374916A |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201410440523.8 |
申请日期 |
2014.09.01 |
申请人 |
山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
发明人 |
左致远;夏伟;徐现刚 |
分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
代理机构 |
济南日新专利代理事务所 37224 |
代理人 |
王书刚 |
主权项 |
一种n面电极下沉的反极性AlGaInP发光二极管芯片,自下至上依次包括p面电极、衬底、键合层、反射镜层、绝缘层、p型电流扩展层、p型半导体层、有源发光区、n型半导体层、n型电流扩展层、窗口层、n面电极和n面焊盘;其特征是:p面电极制备在衬底的底面;绝缘层上分布有开孔,反射镜层通过绝缘层上的开孔与p型电流扩展层接触;有源发光区是多量子阱或多异质结的结构;窗口层中设有深达n型电流扩展层上表面的开孔,n面电极设置在n型电流扩展层的上表面,且处于窗口层的开孔中。 |
地址 |
261061 山东省潍坊市高新区金马路9号 |