发明名称 |
一种磁性靶材 |
摘要 |
本实用新型提供了一种磁性靶材,所述磁性靶材能够与非磁性靶材共用磁控溅射系统,其中非磁性靶材为圆形平面靶材,包括溅射靶和背板。所述磁性靶材通过将非磁性靶材1)减薄溅射靶;2)将溅射面及其背面由平面改成球面,以及背板的焊接面也由平面改为内球面,且与溅射靶的背面完全贴合;或者进一步从背板主体部分的冷却面方向减薄背板等;得到形变后的磁性靶材,该磁性靶材使用与非磁性靶材可共用的溅射系统进行溅射,所得溅射薄膜的厚度均匀性达到2.0%以内。 |
申请公布号 |
CN205062168U |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201520855329.6 |
申请日期 |
2015.10.29 |
申请人 |
杭州立昂微电子股份有限公司 |
发明人 |
张瑞丽;任瑞 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 |
代理人 |
张宇娟 |
主权项 |
一种磁性靶材,其特征在于:所述磁性靶材能够与非磁性靶材共用磁控溅射系统,所述共用的磁控溅射系统包括靶座,所述靶座包括磁铁;所述非磁性靶材包括溅射靶、以及用以支撑溅射靶的背板;溅射靶为扁圆柱形,包括呈圆形平面的溅射面及与溅射面相对的溅射靶背面;背板包括支撑溅射靶的主体部分和主要起固定作用的外沿部分,背板通过焊接面与溅射靶粘贴成一体,与焊接面相对的背板内壁形成冷却面,冷却面为圆形平面;所述磁性靶材由所述非磁性靶材进行如下形状变化形成:1) 减薄溅射靶;以及2) 将溅射靶的溅射面及其背面由平面改成球面,且溅射面与溅射靶的背面完全平行,同时,背板主体部分的焊接面由非磁性靶材的平面改为内球面,且与溅射靶的背面完全贴合。 |
地址 |
310018 浙江省杭州市下沙经济技术开发区20号路199号 |