获得集成电路布局设计的方法

摘要

本发明公开了一种获得集成电路布局设计的方法，其中，将集成电路芯片通过倾斜角度抛光而形成抛光斜面，并获得抛光斜面的一个或多个影像。将所述的多个影像直接重叠，或使用所述的影像或所述的多个影像用以提供数据，而获得包括布局结构的至少一重复单元结构的布局设计。

主权项

一种获得集成电路布局设计的方法,其特征在于包括:提供一集成电路芯片,包括一集成电路的布局结构及一介电材料填层,其中所述的布局结构包括一重复单元结构的阵列；将所述的集成电路芯片通过倾斜角度抛光移除一表面厚度,而形成一抛光斜面,所述抛光斜面同时具有多个深度区域的表面影像；取得所述的抛光斜面的多个所述深度区域的多个所述表面影像；及将所述的多个表面影像重叠,获得包括有所述的布局结构的至少一个重复单元结构的布局设计。