发明名称 |
一种高活性晶面暴露比例Mo-V-Te-Nb-O催化剂及其制备和应用 |
摘要 |
本发明的目的在于提供一种高活性[001]晶面暴露比例的Mo-V-Te-Nb-O催化剂及其制备方法和应用;其特征在于:该催化剂活性组分的摩尔配比为Mo:V:Te:Nb=1:0.3:0.23:0.12;该催化剂的[001]晶面暴露比例通过添加表面形貌控制剂调节,所用表面形貌控制剂为多元醇或有机胺,形貌控制剂/Mo的摩尔比为0~2.0。本发明采用形貌控制剂制备的Mo-V-Te-Nb-O催化剂具有非常高的活性[001]晶面暴露比例,在丙烷选择氧化制丙烯酸反应中,表现出很高的催化活性、催化稳定性和丙烯酸选择性。 |
申请公布号 |
CN105363431A |
申请公布日期 |
2016.03.02 |
申请号 |
CN201410441029.3 |
申请日期 |
2014.08.29 |
申请人 |
中国科学院大连化学物理研究所 |
发明人 |
杨维慎;楚文玲;蔡睿;王红心 |
分类号 |
B01J23/28(2006.01)I;C07C57/05(2006.01)I;C07C51/215(2006.01)I |
主分类号 |
B01J23/28(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 |
代理人 |
张晨 |
主权项 |
一种高[001]晶面暴露比例Mo‑V‑Te‑Nb‑O催化剂,其特征在于:该催化剂活性组分的摩尔配比为Mo:V:Te:Nb=1:0.3:0.23:0.12;该催化剂的[001]晶面暴露比例通过添加表面形貌控制剂调节,所用表面形貌控制剂为多元醇或有机胺。 |
地址 |
116023 辽宁省大连市中山路457号 |