一种二氧化锡纳米花阵列的合成方法

摘要

本发明公开了一种二氧化锡纳米花阵列的合成方法。该方法首先将铜片依次用乙醇、稀硝酸和蒸馏水超声处理，风干待用；然后将五水四氯化锡与去离子水搅拌混合均匀，形成溶液A；将氢氧化钠和去离子水搅拌混合均匀，形成溶液B，将溶液A和溶液B混合搅拌均匀，将铜片放置在反应釜中，封釜，在140～220℃下水热反应4～48h，自然冷却至室温，反应产物在蒸馏水或无水乙醇中浸洗，干燥，得均匀的纳米柱组成的二氧化锡纳米花阵列。本发明采用水热法在金属铜基片上一步合成二氧化锡纳米花阵列，反应过程不需表面活性剂和任何催化剂作用，制备方法简单，成本低，具有环境友好的优点。所得纳米花阵列形貌可控，产率高，周期短，适合工业化生产。

主权项

一种二氧化锡纳米花阵列的合成方法，其特征在于包括如下步骤：1)将铜片依次用乙醇、稀硝酸和蒸馏水超声处理，在空气中风干待用；2)将五水四氯化锡与去离子水搅拌混合均匀，控制溶液的浓度为0.02～6.0mol/L，形成溶液A；将氢氧化钠和去离子水搅拌混合均匀，形成溶液B，氢氧化钠在溶液B中的浓度为1.25～6.56mol/L；将溶液A和溶液B混合搅拌均匀，溶液A和溶液B的体积比为9:1‐1:9；然后将铜片放置在反应釜中，封釜，在140～220℃下水热反应4～48h，自然冷却至室温，反应产物在蒸馏水或无水乙醇中浸洗，干燥，得均匀的纳米柱组成的二氧化锡纳米花阵列。