| 发明名称 | 碳纳米管制备装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种碳纳米管制备装置，包括：一反应腔，所述反应腔内设置有：至少一个进气管，每个进气管上设有多个进气孔；基片承载盘；至少一个出气管，每个出气管上设有多个出气孔；其中，所述基片承载盘位于所述进气管和所述出气管之间，每个进气管和每个出气管可拆卸的安装在所述反应腔中。通过对传统碳纳米管阵列生长用CVD反应腔中的进气管和出气管进行改进，大大提高反应腔内碳源气体的空间分布均匀性，同时，基片垂直或倾斜地放置在该装置反应腔中的基片承载盘上，使基片在碳纳米管阵列生长过程中与碳源气体充分接触，从而有利于多片碳纳米管阵列的均匀生长。该碳纳米管制备装置对碳纳米管阵列的批量化制备有着重要的促进作用。 | ||
| 申请公布号 | CN103569998B | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
| 申请号 | CN201310604094.9 | 申请日期 | 2013.11.26 |
| 申请人 | 苏州捷迪纳米科技有限公司 | 发明人 | 李清文;勇振中;张永毅;张超;卢山 |
| 分类号 | C01B31/02(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 主分类号 | C01B31/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人 | 杨林洁 |
| 主权项 | 一种碳纳米管制备装置，其特征在于，所述碳纳米管制备装置包括一反应腔，所述反应腔内设置有：至少一个进气管，每个进气管上设有多个进气孔；基片承载盘；至少一个出气管，每个出气管上设有多个出气孔；其中，所述基片承载盘位于所述进气管和所述出气管之间，每个进气管和每个出气管可拆卸的安装在所述反应腔中。 | ||
| 地址 | 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 | ||