减少缺陷的基板处理方法

摘要

一种用于处理基板表面的方法使用源自气体团簇离子束的中性射束辐照以及由此产生的包括光刻光掩膜基板的制品。一个实施例提供了处理包含一个或多个嵌入粒子或包含亚表面损伤的基板的表面的方法，该方法包含以下步骤：提供减压室；在减压室中形成包含气体团簇离子的气体团簇离子束；在减压室中加速气体团簇离子以形成沿射束路径的加速的气体团簇离子束；促使沿射束路径的至少一部分加速的气体团簇离子分裂和/或离解；在减压室中从射束路径中去除带电粒子以形成沿射束路径的加速的中性射束；将表面保持在射束路径中；以及通过辐照处理基板的至少一部分表面。

主权项

一种处理包含一个或多个嵌入粒子或包含亚表面损伤的基板的表面的方法，包含以下步骤：提供减压室；在所述减压室中形成包含气体团簇离子的气体团簇离子束；在所述减压室中加速所述气体团簇离子以形成沿射束路径的加速的气体团簇离子束；促进沿所述射束路径的至少一部分所述加速的气体团簇离子的分裂和/或离解；在所述减压室中从所述射束路径中去除带电粒子以形成沿所述射束路径的加速的中性射束；将所述表面保持在所述射束路径中；以及通过用所述加速的中性射束辐照来处理所述基板的至少一部分所述表面。