高性能陶瓷活塞环制造技术

摘要

本发明涉及高性能陶瓷活塞环制造技术。目前，活塞环表面处理技术主要包括电镀铬、表面氮化、PVD与CVD镀膜、等离子喷钼、等离子喷涂陶瓷涂层等，但都存在不同的性能缺陷，达不到理想的效果。本发明采用双层辉光等离子表面冶金技术，使钼(或铬、钛、钨)元素深入普通低合金钢活塞环表层内，再经真空离子碳化和后续热处理，成为具有高硬度、高耐磨性等良好综合机械性能的陶瓷活塞环。

主权项

一种制造高性能陶瓷活塞环所用的方法，其特征在于：将低合金钢活塞环与钼材置于极限真空度为8.0Pa的桶形阴极内，桶形阴极的上端开口，活塞环位于和主电源负端相连的阴极座上，钼材设在桶形阴极内壁四周，通入压力为30～40Pa的氩气，偏压为240～450V；逐渐增大主电源电压至500～600V，出现第一次电流突变产生辉光，继续增大主电源电压至600～800V，出现第二次电流突变，形成双层辉光放电，产生800～1000℃高温；钼材溅射出金属原子，又被电离成钼离子，钼离子沿着高温下形成的无数位错、空位晶体缺陷通道深入活塞环表层，再经过真空离子碳化，在活塞环表层形成碳化钼陶瓷层。