| 发明名称 | 一种中位烷基噻吩取代及3,5位给电子基取代氟化硼络合二吡咯甲川衍生物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种中位烷基噻吩取代及3,5位强给电子基取代的氟化硼络合二吡咯甲川衍生物及其制备方法。以2-溴噻吩为起始原料经过一系列反应合成中位烷基噻吩取代二吡咯甲烷，经NBS溴化得到3,5-二溴二吡咯烷；然后，TCQ氧化、三氟化硼乙醚络合得到中位含有烷基噻吩的3,5-二溴氟硼中间体，再利用该中间体与多种修饰基团进行Suzuki/Stille偶联反应，得到3,5位给体单元取代的氟化硼络合二吡咯甲川衍生物，结构通式见式Ⅰ。该类中位烷基噻吩取代及3,5位强给电子基取代的氟化硼络合二吡咯甲川衍生物具有良好的稳定性，在生命科学、太阳能电池、环境能源等领域有潜在应用价值。<img file="DDA0000813758940000011.GIF" wi="509" he="615" /> | ||
| 申请公布号 | CN105367592A | 申请公布日期 | 2016.03.02 |
| 申请号 | CN201510642416.8 | 申请日期 | 2015.09.29 |
| 申请人 | 东莞理工学院 | 发明人 | 赵鸿斌;廖俊旭;王育才;张文涛;彭敏;李柏鸿;刘晓杰;朱威 |
| 分类号 | C07F5/02(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I;C09B57/00(2006.01)I | 主分类号 | C07F5/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人 | 连平 |
| 主权项 | 一种中位烷基噻吩取代及3,5位强给电子基取代的氟化硼络合二吡咯甲川衍生物，其特征在于，具有通式(Ⅰ)的化学结构：<img file="FDA0000813758910000011.GIF" wi="470" he="591" />式(Ⅰ)中，<img file="FDA0000813758910000012.GIF" wi="1502" he="454" /> | ||
| 地址 | 523808 广东省东莞市松山湖科技产业园大学路1号东莞理工学院化学与环境工程学院 | ||