| 摘要 |
본 발명은 기판 위에 하부 클래드층, 코어층 및 상부 클래드층이 순차적으로 형성된 평면 광도파로 소자에 반사면을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 상부 클래드층에 제1금속층과, 포토레지스트층을 순차적 적층하고, 제1방향을 따라 기준위치에서 제1방향을 따라 멀어지는 방향으로 진행할 수록 투광영역과 비투과영역이 반복되게 형성되되 기준위치로부터 제1방향을 따라 멀어질 수록 비투광영역 사이의 투광영역의 제1폭이 점진적으로 줄어들고, 제1방향과 직교하는 제2방향을 따라서도 투광영역과 비투광영역이 반복되게 형성된 마스터 패턴이 형성된 마스크를 포토레지스트층 위에 정렬하고, 마스터 패턴을 통해 포토레지스트층으로 부터 제1금속층까지 마스터 패턴과 대응되는 슬레이브 패턴을 형성 한 후 슬레이브 패턴을 통해 노출된 부분에 상부 클래드층으로 식각가스를 분사하여 상부 클래드층으로부터 하부 클래드층까지 식각하여 경사진 반사면을 형성하는 단계 및 반사면을 코팅하는 단계를 포함한다. 이러한 평면 광도파로 소자의 반사면 형성 방법에 의하면, 식각되는 부분의 폭에 비례하여 식각되는 부분의 깊이가 깊어지는 특성을 이용한 식각을 통해 반사면을 형성함으로써, 간단하게 경사면을 형성할 수 있고, 공정 시간과 제조 원가를 절감할 수 있는 장점이 있다. |
