发明名称 用于浸没式光刻的浸液温控装置
摘要 本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统,包括:用于浸液流动的浸液管路,待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路,温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出;用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路,工艺冷却液在该回路中循环流动;以及多个热交换器,其沿流向依次布置,所述浸液管路和工艺冷却水回路同时流经每个热交换器,并利用各热交换器分别依次完成工艺冷却液和浸液之间的热交换,从而通过多次换热获得具有稳定温度的浸液,实现对浸液的温度控制。本发明的装置系统采用内部回流结构与多级热交换器相结合,实现对浸液温度的多级控制,可以实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制,提供温控效率。
申请公布号 CN103176369B 申请公布日期 2016.03.02
申请号 CN201310078820.8 申请日期 2013.03.13
申请人 华中科技大学 发明人 李小平;石文中;汤中原;何俊伟
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G05D23/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 华中科技大学专利中心 42201 代理人 李佑宏
主权项 一种用于浸没式光刻的浸液温控系统,通过其获得具有稳定温度的浸液,以用于浸没式光刻工艺中,其特征在于,该温控系统包括:用于浸液流动的浸液管路,待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路,温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出;用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路,工艺冷却液在该回路中循环流动;以及多个热交换器(7,8,9,10),其沿流向依次布置,所述浸液管路和工艺冷却液回路同时流经每个热交换器,并利用各热交换器(7,8,9,10)分别依次完成工艺冷却液和浸液之间的热交换,从而通过多次换热获得具有稳定温度的浸液,实现对浸液温度的多级控制;其中,所述浸液管路上在至少一个热交换器后设置有分支管路作为回流点,用于将经该热交换器进行热交换处理后的浸液部分回流,以重新进入浸液管路与热交换前的浸液混合;所述浸液管路上设置有多个温度传感器(15,16,17,18),每个温度传感器与一个热交换器对应,分别用于检测经各热交换器(7,8,9,10)后的浸液温度,各温度传感器(15,16,17,18)均分别对应与一控制电液伺服阀(11,12,13,14)的温度控制器(3,4,5,6)连接,所述各温度传感器(15,16,17,18)检测的温度值反馈给对应的温度控制器(3,4,5,6),以用于各温度控制器控制对应的所述电液伺服阀对工艺冷却液进行流量控制,实现精确的温度控制。
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