一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统

摘要

本发明公开了一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该方法包括高精度多通道I/V采集转换、水平方向束分布密度的检测与修正、束平行度检测、垂直扫描控制算法。系统主要由多线圈调节磁铁、多级调节磁极、移动法拉第杯、采样法拉第杯、直线电机和PMAC运动控制系统构成。本发明能够自动实现离子注入离子的剂量的精确检测、自动实现注入离子分布的均匀性和剂量的准确性控制。

主权项

一种用于精确控制离子注入分布均匀的系统，包括：多线圈调节磁铁、多级调节磁极、移动法拉第杯、采样法拉第杯、直线电机和PMAC运动控制系统；移动法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与PMAC运动控制系统相连，其中采样法拉第杯用于采集束流值，配合多线圈调节磁铁及多级调节磁极完成平行度与均匀性检测；移动法拉第杯用于采集束流值并进行宽带束的平行度与水平方向均匀性校正。