| 发明名称 |
LITHOGRAPHIC METHOD AND SYSTEM |
| 摘要 |
자유 전자 레이저를 사용하여 EUV 방사선을 생성하는 단계; 상기 EUV 방사선을 리소그래피 기판 상에 투영하는 리소그래피 장치로 상기 EUV 방사선을 전달하는 단계; 및 피드백-기초 제어 루프를 사용하여 상기 자유 전자 레이저를 모니터링하고 모니터링에 상응하여 상기 자유 전자 레이저의 동작을 조절함으로써, 상기 리소그래피 기판에 전달된 EUV 방사선의 파워의 요동(fluctuation)을 감소시키는 단계를 포함하는, 리소그래피 기판의 패터닝 방법. |
| 申请公布号 |
KR20160022357(A) |
申请公布日期 |
2016.02.29 |
| 申请号 |
KR20167001430 |
申请日期 |
2014.06.17 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
NIKIPELOV ANDREY;FRIJNS OLAV;DE VRIES GOSSE;LOOPSTRA ERIK;BANINE VADIM;DE JAGER PIETER;DONKER RILPHO;NIENHUYS HAN KWANG;KRUIZINGA BORGERT;ENGELEN WOUTER;LUITEN OTGER;AKKERMANS JOHANNES;GRIMMINCK LEONARDUS;LITVINENKO VLADIMIR |
| 分类号 |
G03F7/20;G01J1/04;G21K1/10;H01L21/027;H01S3/00;H01S3/09 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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