hollow/rattle/raspberry/mesoporous manufacturing method of hollow/rattle/raspberry/mesoporous type silica particles by a selective etching process

摘要

본 발명은 hollow/rattle/raspberry/mesoporous 구조를 갖는 실리카 입자의 제조방법에 관한 것으로, 선택적 에칭 공정을 통해 제조방법에 관한 것으로, 실란 전구체의 혼합 부피비 및 에칭 온도와 같은 다양한 조건을 제어하여 중공형(hollow), 래틀(rattle), 래즈베리(raspberry) 및 메조포러스(mesoporous) 중에서 원하는 형상을 갖도록 실리카 입자를 제조할 수 있다.