| 发明名称 |
Method for layer application in multi-target magnetron sputtering system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
PL221077(B1) |
申请公布日期 |
2016.02.29 |
| 申请号 |
PL20110396389 |
申请日期 |
2011.09.20 |
| 申请人 |
POLITECHNIKA WROCŁAWSKA |
发明人 |
DOMARADZKI JAROSŁAW;KACZMAREK DANUTA;ADAMIAK BOGDAN;DORA JERZY;MAGUDA SŁAWOMIR |
| 分类号 |
C23C14/00;C23C14/35;H01J23/00;H01J37/00 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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