发明名称 Restoring Low Dielectric Constant Film Properties
摘要 본 발명은 저유전상수 필름의 유전상수를 회복시키는 방법에 관한 것이다. 다수의 기공을 지니는 다공성 유전층이 기판상에 형성된다. 다수의 기공은 이어서 첨가제로 충전되어 플러깅된 다공성 유전층을 제공한다. 최종적으로 첨가제가 다수의 기공으로부터 제거된다.
申请公布号 KR101598447(B1) 申请公布日期 2016.02.29
申请号 KR20090055528 申请日期 2009.06.22
申请人 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 发明人 쿠이, 젠지앙;유, 메이;데모스, 알렉산드로스 티.;나이크, 메흘
分类号 H01L21/28;H01L21/31 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
地址