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发明名称 CMP COMPOSITION COMPRISING ABRASIVE PARTICLES CONTAINING CERIA
摘要 Described is a chemical-mechanical polishing (CMP) composition comprising abrasive particles containing ceria.
申请公布号 SG11201600360Y(A) 申请公布日期 2016.02.26
申请号 SG11201600360Y 申请日期 2014.07.08
申请人 BASF SE 发明人 LAUTER, MICHAEL;LI, YUZHUO;NOLLER, BASTIAN MARTEN;LANGE, ROLAND;REICHARDT, ROBERT;LAN, YONGQING;BOYKO, VOLODYMYR;KRAUS, ALEXANDER;SEYERL, JOACHIM VON;USMAN IBRAHIM, SHEIK ANSAR;SIEBERT, MAX;HARTNAGEL, KRISTINE;DENGLER, JOACHIM;HILLESHEIM, NINA SUSANNE
分类号 C09G1/02;C09G1/00;C09G1/04;C09K3/14 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
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