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멀티 하전 입자빔 묘화 장치는, 시료를 재치하는 스테이지와, 하전 입자빔을 방출하는 방출부와, 복수의 개구부가 형성되고, 상기 복수의 개구부 전체가 포함되는 개구부 형성 영역에 상기 하전 입자빔의 조사를 받아, 상기 복수의 개구부를 상기 하전 입자빔의 일부가 각각 통과함으로써 멀티빔을 형성하는 애퍼처 부재와, 자장이 반대 방향인 복수의 전자 렌즈와, 각 전자 렌즈의 자장 중에 적어도 1개씩 배치되고, 1개 이상이 멀티빔을 상기 시료 상으로 일괄하여 편향하는 편향기를 겸한 3개 이상의 정전 렌즈를 구비한 것을 특징으로 한다. |
