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노광 장치용 마스크의 패턴을 결정하는 방법은, 마스크를 제조하기 위해서 마스크 블랭크에 잠정 패턴을 묘화하는 비용을 평가하기 위해 사용되는 제1 평가 함수의 값을 계산하는 제1 계산 단계, 잠정 패턴을 갖는 마스크를 물체 면에 배치했을 때 상면에 형성되는 화상을 평가하기 위해 사용되는 제2 평가 함수의 값을 계산하는 제2 계산 단계, 및 제1 및 제2 계산 단계의 계산 결과들이 종료 조건을 충족시키지 않을 경우에, 잠정 패턴, 노광 장치의 조명 조건, 및 마스크 블랭크에 관한 패턴의 묘화 조건 중 하나 이상을 변경하는 변경 단계를 포함한다. |
