发明名称 Schutzringstruktur und Verfahren zur Herstellung derselben
摘要 Eine Schaltungseinrichtung umfasst eine Kernschaltung. Die Schaltungseinrichtung umfasst ferner einen ersten Satz von Schutzringen, der einen ersten Dotierstofftyp aufweist, wobei der erste Satz von Schutzringen um einen Randbereich der Kernschaltung herum liegt, wobei der erste Satz von Schutzringen einen ersten Schutzring und einen zweiten Schutzring umfasst. Eine Schaltungseinrichtung umfasst ferner einen zweiten Satz von Schutzringen, der einen zweiten Dotierstofftyp aufweist, wobei der zweite Dotierstofftyp entgegengesetzt zum ersten Dotierstofftyp ist, wobei mindestens ein Schutzring des zweiten Satzes von Schutzringen um einen Randbereich von mindestens einem Schutzring des ersten Satzes von Schutzringen herum liegt und der zweite Satz von Schutzringen einen dritten Schutzring und einen vierten Schutzring umfasst.
申请公布号 DE102015105951(A1) 申请公布日期 2016.02.25
申请号 DE201510105951 申请日期 2015.04.18
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. 发明人 LIN, WAN-YEN;LIN, WUN-JIE;SU, YU-TI;CHEN, BO-TING;TSENG, JEN-CHOU;CHANG, SUN-JAY;LIANG, MIN-CHANG;CHEN, KUO-JI
分类号 H01L29/06 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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