发明名称 Lithographie-Blendenlinse, Beleuchtungsvorrichtung, Lithographiesystem und Verfahren
摘要 Linse für eine Beleuchtungsvorrichtung (122) eines Lithographiesystems (120) mit: einem transparenten Material (102), einem auf dem transparenten Material angeordneten opaken Material (104), einem auf dem transparenten Material (102) oder auf dem opaken Material (104) angeordneten elektrooptischen Material (108), und mindestens einer in dem opaken Material (104) ausgebildeten Blendenstruktur (106).
申请公布号 DE102008001264(B4) 申请公布日期 2016.02.25
申请号 DE20081001264 申请日期 2008.04.18
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHNEIDER, JENS;TEMCHENKO, VLAD
分类号 G03F7/20;G02B1/10;G02B1/12;G02B3/00;G02F1/00;G02F1/03 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址