发明名称 |
Lithographie-Blendenlinse, Beleuchtungsvorrichtung, Lithographiesystem und Verfahren |
摘要 |
Linse für eine Beleuchtungsvorrichtung (122) eines Lithographiesystems (120) mit: einem transparenten Material (102), einem auf dem transparenten Material angeordneten opaken Material (104), einem auf dem transparenten Material (102) oder auf dem opaken Material (104) angeordneten elektrooptischen Material (108), und mindestens einer in dem opaken Material (104) ausgebildeten Blendenstruktur (106). |
申请公布号 |
DE102008001264(B4) |
申请公布日期 |
2016.02.25 |
申请号 |
DE20081001264 |
申请日期 |
2008.04.18 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHNEIDER, JENS;TEMCHENKO, VLAD |
分类号 |
G03F7/20;G02B1/10;G02B1/12;G02B3/00;G02F1/00;G02F1/03 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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