发明名称 基于隐藏式沟道负微分电阻的存储器单元
摘要 本发明揭示一种经改善的基于隐藏式晶闸管的存储器单元。在一个实施例中,所述所揭示单元包含隐藏在衬底的体中的导电插塞,所述导电插塞耦合到或包含所述单元的启用栅极。垂直设置在所述隐藏式栅极周围的是晶闸管,其阳极(源极;p型区)连接到位线,且阴极(漏极;n型区)连接到字线。除隐藏式启用栅极以外,所述所揭示单元不再包含例如存取晶体管等其它栅极,且因此其实质上是一个晶体管装置。因此,并且由于晶闸管的垂直设置所提供的便利,当与传统DRAM单元比较时,所述所揭示单元在集成电路上占据少量面积。此外,在其各实施例中,所述所揭示单元制造简单,并易于配置成一单元阵列。
申请公布号 CN102339856B 申请公布日期 2016.02.24
申请号 CN201110296045.4 申请日期 2006.09.26
申请人 美光科技公司 发明人 钱德拉·穆利
分类号 H01L29/74(2006.01)I;H01L27/102(2006.01)I;H01L21/332(2006.01)I;H01L21/8229(2006.01)I 主分类号 H01L29/74(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 王允方
主权项 一种存储器单元,其包含:一导电材料,其形成于衬底中的沟槽中,其中所述沟槽位于两个沟槽隔离结构之间;及经配置以存储二进制数状态的晶闸管,其设置在所述衬底中,并形成在所述导电材料的周围且通过电介质与所述导电材料隔离,所述晶闸管包括阳极和阴极;其中所述阳极与一阵列中的一位线连接,其中所述阴极与所述阵列中的一字线连接,且其中所述导电材料与所述阵列中的使能栅极连接;其中所述晶闸管呈U形形成在所述导电材料的周围。
地址 美国爱达荷州