| 发明名称 | 一种辐射制冷双层纳米涂层及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于光谱选择性的纳米颗粒领域，特别涉及一种辐射制冷双层纳米涂层及其制备方法，该涂层的上层为由粒径范围在200-1000nm的纳米颗粒形成的反射纳米颗粒层，该涂层的下层为由粒径范围在40-100nm纳米颗粒形成的发射纳米颗粒层。所述反射纳米颗粒层中含有TiO<sub>2</sub>、ZnO、ZnS、ZrO<sub>2</sub>或Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub>中的一种或几种物质，所述发射纳米颗粒层中含有SiC、SiO<sub>2</sub>、BN中的一种或几种物质。所述辐射制冷双层纳米涂层在建筑节能，电子设备散热及食品保鲜等领域具有较大应用价值。所述辐射制冷双层纳米涂层的制备方法简单、成本低，原料易得，工艺可控性好。 | ||
| 申请公布号 | CN105348892A | 申请公布日期 | 2016.02.24 |
| 申请号 | CN201510846914.4 | 申请日期 | 2015.11.27 |
| 申请人 | 上海交通大学 | 发明人 | 鲍华;闫晨;赵长颖;王博翔 |
| 分类号 | C09D5/33(2006.01)I;C09D1/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09D5/33(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人 | 曹莉 |
| 主权项 | 一种辐射制冷双层纳米涂层，其特征在于：该涂层的上层是由粒径在200‑1000nm范围的纳米颗粒形成的反射纳米颗粒层，该涂层的下层是由粒径在40‑100nm范围的纳米颗粒形成的发射纳米颗粒层。 | ||
| 地址 | 200240 上海市闵行区东川路800号 | ||