发明名称 用于借助微波生成等离子体的装置
摘要 用于借助微波生成等离子体用来对衬底进行CVD涂层的装置(1)具有反应气体可被输送到的真空箱(2)和布置在其中的电导体(3),所述电导体在其两个端部处分别与用于耦合输入微波的装置(6)以及与电压源(7)相连接,用该电压源(7)可在电导体(3)和周围的真空箱(2)之间生成电位差,其中,电导体(3)相对于用于耦合输入微波的装置(6)是电绝缘的。电导体(3)具有棒状的造型或弯曲的走向。电导体(3)经由穿通滤波器与电压源(7)相连接。用于耦合输入微波的装置(6)朝向电导体(3)漏斗状地展开,并且部分地或完全地用介电材料(11)充填。用于耦合输入微波的装置(6)具有沿着周边伸展的槽形的凹口。
申请公布号 CN103003913B 申请公布日期 2016.02.24
申请号 CN201080061090.5 申请日期 2010.11.05
申请人 米格有限责任公司 发明人 H.米格;K-M.鲍姆格特纳;M.凯泽;L.阿尔贝茨
分类号 H01J37/32(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 臧永杰;李家麟
主权项 用于借助微波生成等离子体用来对衬底进行CVD涂层的装置,具有:能被输入反应气体的真空箱(2);和布置在该真空箱中的、与用于耦合输入微波的装置(6)相连接的电导体(3),其特征在于,电导体(3)在其两个端部处分别与用于耦合输入微波的装置(6)相连接,电导体(3)与用于在电导体(3)和周围的真空箱(2)之间生成电位差的电压源(7)相连接,并且电导体(3)相对于用于耦合输入微波的装置(6)电绝缘或脱耦。
地址 德国赖谢尔斯海姆