发明名称 |
提高微通道板软X射线-极紫外线成像性能的方法及产品 |
摘要 |
本发明公开了一种提高微通道板软X射线-极紫外线成像性能的方法及产品,包括:以气态三甲基铝为铝源,以气态去离子水作为氧源,以高纯氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统,在铅铋玻璃制作的方孔微通道板上沉积氧化铝薄膜;以固态乙酰丙酮铱为铱源,以高纯氧气为氧源还原金属铱,以高纯氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统,沉积铱薄膜。本发明制备的方孔微通道板孔径内壁增反膜,相比较未处理的微通道板,它利用的是铱作为金属增反膜,反射效率显著提高,从而有效提高微通道板用在软X射线—极紫外波段成像时的光强效率。本发明方法对方孔微通道板性能的改善,将会更加促进微通道板在X射线望远镜等掠入射成像系统的应用。 |
申请公布号 |
CN105349962A |
申请公布日期 |
2016.02.24 |
申请号 |
CN201510809554.0 |
申请日期 |
2015.11.20 |
申请人 |
浙江大学 |
发明人 |
沈伟东;方波;章岳光;杨陈楹;袁文佳;毛克宁;范瑞 |
分类号 |
C23C16/18(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01J9/00(2006.01)I;H01J43/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/18(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 |
代理人 |
黄燕 |
主权项 |
一种提高微通道板软X射线‑极紫外线成像性能的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)以气态三甲基铝为铝源,以气态去离子水作为氧源,以氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统在铅铋玻璃制作的方孔微通道板上沉积氧化铝薄膜;(2)以固态乙酰丙酮铱为铱源,以氧气为氧源还原金属铱,以氮气作为载气和清洁气体,利用原子层沉积系统在步骤(1)的氧化铝薄膜上沉积铱薄膜。 |
地址 |
310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |