发明名称 一种空间用紫外反射膜的制备方法
摘要 本发明涉及光学薄膜制备技术领域,主要公开了一种空间用紫外反射膜的制备方法。该空间用紫外反射膜的制备方法包括以下步骤:a)预处理玻璃盖片:清洗所述玻璃盖片;b)制备反射膜:通过电子枪热蒸发的方式在所述玻璃盖片的表面沉积所述反射膜,并利用离子源辅助所述反射膜在所述玻璃盖片的表面进行沉积;其中,所述反射膜由高折射率材料HfO<sub>2</sub>和低折射率材料MgF<sub>2</sub>复合而成。本发明的有益效果是:加入离子源进行辅助淀积是为了提高HfO<sub>2</sub>层的成膜质量,提高HfO<sub>2</sub>淀积粒子的迁移率,增加HfO<sub>2</sub>膜层聚集密度,填充膜内空隙缺陷。加之,所述反射膜由高折射率材料HfO<sub>2</sub>和低折射率材料MgF<sub>2</sub>复合而成,因此这样便可以顺利获得高反射率且光学性良好的反射膜。
申请公布号 CN105349949A 申请公布日期 2016.02.24
申请号 CN201510875744.2 申请日期 2015.12.03
申请人 中国电子科技集团公司第十八研究所;天津恒电空间电源有限公司 发明人 孙希鹏;杜永超;肖志斌
分类号 C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;G02B5/26(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I 主分类号 C23C14/30(2006.01)I
代理机构 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人 刘昕
主权项 一种空间用紫外反射膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a)预处理玻璃盖片(1):清洗所述玻璃盖片(1);b)制备反射膜(2):通过电子枪热蒸发的方式在所述玻璃盖片(1)的表面沉积所述反射膜(2),并利用离子源辅助所述反射膜(2)在所述玻璃盖片(1)的表面进行沉积;其中,所述反射膜(2)由高折射率材料HfO<sub>2</sub>和低折射率材料MgF<sub>2</sub>复合而成。
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