一种用于获取超光滑表面的双转轮式弹性发射加工装置

摘要

本发明提供一种用于获取超光滑表面的双转轮式弹性发射加工装置，包括公转单元和自转单元，所述公转单元包括公转电机和公转轴，所述公转电机驱动公转轴，所述自转单元与公转轴连接且由公转轴带动实现公转，所述自转单元包括自转电机、自转轴和抛光轮，所述自转轴由自转电机驱动，所述抛光轮固定安装在自转轴的一端且由自转轴带动实现自转，所述公转单元和自转单元通过螺栓与转接板连接在一起，转接板通过螺栓固定在机床上。本发明装置能够消除轮式EEM加工的光学元件表面的微细纹路，在平面甚至曲面上实现超光滑表面。

主权项

一种用于获取超光滑表面的双转轮式弹性发射加工装置，其特征在于：包括公转单元和自转单元，所述公转单元包括公转电机和公转轴，所述公转电机驱动公转轴，所述自转单元与公转轴连接且由公转轴带动实现公转，所述自转单元包括自转电机、自转轴和抛光轮，所述自转轴由自转电机驱动，所述抛光轮固定安装在自转轴的一端且由自转轴带动实现自转，所述公转单元和自转单元通过螺栓与转接板连接在一起，转接板通过螺栓固定在机床上。