| 发明名称 | 微纳光纤表面制作光栅的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种微纳光纤表面制作光栅的方法，其中，该方法包括以下步骤：提供一微纳光纤；在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜；以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。本发明提出的制作方法利用涂覆在微纳光纤表面的功能化膜，借助于薄膜材料的光敏性，利用低功率的紫外光进行曝光制备光栅。该方法不会引起石英微纳光纤的损伤，保证了微纳光纤光栅的力学性能。而且，该方法与当前通用的光纤光栅制备方法和设备完全兼容。 | ||
| 申请公布号 | CN105353459A | 申请公布日期 | 2016.02.24 |
| 申请号 | CN201510840618.3 | 申请日期 | 2015.11.27 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 李宇航;徐忠扬;王力军 |
| 分类号 | G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B6/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人 | 王赛 |
| 主权项 | 一种微纳光纤表面制作光栅的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：提供一微纳光纤；在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜；以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区北京100084-82信箱 | ||