METHOD FOR PRODUCING AN ANTIREFLECTIVE LAYER

摘要

본 발명에는 기판(10)상에 반사 방지층을 제조하는 방법이 제시되고, 상기 방법은 ― 제1 플라스마 에칭 공정(plasma etching process)에 의해 제1 재료 내에 제1 나노 구조물(11)을 생성하는 단계(이때 상기 제1 재료는 기판(10)의 재료 또는 상기 기판(10)상에 제공된 제1 유기 재료로 이루어진 층(1)의 재료임), ― 상기 제1 나노 구조물(11) 상에 제2 재료로 이루어진 층(2)을 제공하는 단계(이때 상기 제2 재료는 유기 재료임), 및 ― 제2 플라스마 에칭 공정에 의해 상기 제2 재료로 이루어진 층(2) 내에 제2 나노 구조물(12)을 생성하는 단계(이때 상기 제2 플라스마 에칭 공정을 실시하는 경우 상기 제2 재료는 상기 제1 재료보다 더 큰 에칭비를 가짐)의 중간 단계들을 포함한다.