发明名称 一种具有高发光效率的发光二极管
摘要 一种具有高发光效率的发光二极管,涉及发光二极管的生产技术领域,在朝向缓冲层的衬底表面设置形貌不同的PSS表面图形,在p电极下方设置位错阻挡层,所述位错阻挡层设置在p电极设置区域内的ITO透明导电层以下至部分n型导电层;在位错阻挡层下方设置位错线密集区,所述位错线密集区设置在p电极设置区域内的部分n型导电层以下至非故意掺杂层。本发明在位错阻挡层下设置位错集合区,减少发光区域的位错密度,改善了发光区域的外延晶体质量,减弱大工作电流下Efficiency-Droop效应及提高了发光二极管的可靠性;采用位错阻挡层起到了增加P电极的电流扩展效果,有效提高发光二极管的发光效率。
申请公布号 CN105355768A 申请公布日期 2016.02.24
申请号 CN201510912084.0 申请日期 2015.12.11
申请人 厦门乾照光电股份有限公司 发明人 林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;方天足;陈亮
分类号 H01L33/64(2010.01)I;H01L33/52(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I 主分类号 H01L33/64(2010.01)I
代理机构 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人 江平
主权项 一种具有高发光效率的发光二极管,包括衬底,在衬底上依次设置缓冲层、非故意掺杂层、n型导电层、有源区、电子阻挡层、p型导电层、p型欧姆接触层和ITO透明导电层,在n型导电层上连接n电极,在n电极侧面和外延层侧面设置电极隔离层,在p型导电层上连接p电极,在芯片表面设置芯片保护层;其特征在于在朝向缓冲层的衬底表面设置形貌不同的PSS表面图形,在p电极设置区域的衬底上的PSS表面图形较其它区域大,且随着远离p电极设置区域,PSS表面图形呈现渐变减小的规律;在p电极下方设置位错阻挡层,所述位错阻挡层设置在p电极设置区域内的ITO透明导电层以下至部分n型导电层;在位错阻挡层下方设置位错线密集区,所述位错线密集区设置在p电极设置区域内的部分n型导电层以下至非故意掺杂层。
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