用于间隙流控制的涡流室

摘要

本发明涉及用于间隙流控制的涡流室，具体而言，提供了一种装置(10)，并且该装置包括：第一部件(20)，其带有从其表面(21)延伸的流转向部件(25)；以及设置在第一部件的附近的第二部件(30)，其中，在第二部件的表面(31)和流转向部件的远端(26)之间限定了间隙区域A，从而使得在第一和第二部件(20，30)的表面(21，31)之间形成流体路径(40)，流体(50)沿着该流体路径(40)以自上游区段(60)且通过间隙区域A的方式流动。第二部件形成为在上游区段(60)处限定双涡流室(70，80)，在双涡流室中，流体在被容许流过间隙区域A之前被引导成以涡流模式(75，85)流动。

主权项

一种用于间隙流控制的装置，包括：第一部件，该第一部件带有从其表面延伸的流转向部件；以及设置在所述第一部件的附近的第二部件，其中，在所述第二部件的表面和所述流转向部件的远端之间限定了间隙区域，从而使得在所述第一部件和第二部件的表面之间形成流体路径，流体沿着所述流体路径以自上游区段且通过所述间隙区域的方式流动，所述上游区段在所述第二部件的所述表面和所述转向部件的所述远端之间不具有与所述间隙区域相似尺寸的空隙区域，所述第二部件形成为在所述上游区段不具有所述与所述间隙区域相似尺寸的空隙区域；限定在所述上游区段处的双涡流室，在所述双涡流室中，所述流体在被容许流过所述间隙区域之前被引导成以涡流模式流动。