发明名称 |
边界温度控制阵列型波前控制装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种边界温度控制阵列型波前控制装置,包括:镜片(1)、底座(2)、热沉(3)以及加热制冷单元(4),其中,所述镜片(1)安装在所述底座(2)的一侧,所述热沉(3)以及加热制冷单元(4)安装在所述底座(2)的另一侧。本发明提供的边界温度控制阵列型波前控制装置可以改变能动光学的光学元件面形和提高校正能力,并且当改变与波前阵面区域一致的加热/制冷单元周围的热沉局部导热情况后可以改变不同温度点或相同温度点的形变幅度。本发明结构简单,调节精度高,响应速度快。 |
申请公布号 |
CN103364944B |
申请公布日期 |
2016.02.24 |
申请号 |
CN201310300913.0 |
申请日期 |
2013.07.17 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
黄磊;巩马理;闫平;柳强;薛峤;冯泽心;康少男;闫海波 |
分类号 |
G02B26/06(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种边界温度控制阵列型波前控制装置,其特征在于,包括:镜片(1)、底座(2)、热沉(3)以及加热/制冷单元(4),其中,所述镜片(1)安装在所述底座(2)的一侧,所述热沉(3)以及加热/制冷单元(4)安装在所述底座(2)的另一侧;所述底座(2)的材质为与所述镜片(1)线胀系数不同的材料;所述加热/制冷单元(4)安装在所述底座(2)下方,为所述底座(2)变形提供温度变化,所述热沉(3)分布在各个加热/制冷单元(4)之间,为加热/制冷单元(4)提供边界温度恒定的局部温度场。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园北京100084-82信箱 |