发明名称 |
玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置 |
摘要 |
本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置,该玻璃基板的蚀刻方法包括如下步骤:步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液及供给管路(7);步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9);步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液;步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内;步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板(1);步骤6、达到预定浸泡时间后,降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。该玻璃基板的蚀刻方法简单、易操作,能够缩短蚀刻制程时间,提高生产效率。 |
申请公布号 |
CN104045242B |
申请公布日期 |
2016.02.24 |
申请号 |
CN201410298834.5 |
申请日期 |
2014.06.26 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
李嘉 |
分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
主分类号 |
C03C15/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市德力知识产权代理事务所 44265 |
代理人 |
林才桂 |
主权项 |
一种玻璃基板的蚀刻方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7);步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9);步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6);步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内;步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1);步骤6、达到预定浸泡时间后,降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1);所述步骤4通过传动装置(13)将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内,所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131),所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131),在步骤5升高该浸泡槽(9)后,所述数个滚轮(131)位于浸泡槽(9)内。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |