发明名称 玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置
摘要 本发明提供一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置,该玻璃基板的蚀刻方法包括如下步骤:步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液及供给管路(7);步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9);步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液;步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内;步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板(1);步骤6、达到预定浸泡时间后,降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。该玻璃基板的蚀刻方法简单、易操作,能够缩短蚀刻制程时间,提高生产效率。
申请公布号 CN104045242B 申请公布日期 2016.02.24
申请号 CN201410298834.5 申请日期 2014.06.26
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 李嘉
分类号 C03C15/00(2006.01)I 主分类号 C03C15/00(2006.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种玻璃基板的蚀刻方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7);步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9);步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6);步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内;步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1);步骤6、达到预定浸泡时间后,降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1);所述步骤4通过传动装置(13)将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内,所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131),所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131),在步骤5升高该浸泡槽(9)后,所述数个滚轮(131)位于浸泡槽(9)内。
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